Компания Picosun расширяет сотрудничество с Hitachi High-Technologies Corporation (Япония)

Компания Picosun расширяет сотрудничество с Hitachi High-Technologies Corporation (Япония) в области использования технологии плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения. Цель сотрудничества вывести плазменные тонкопленочные технологии на совершенно новый уровень, используя новейшую технологию АСО в комбинации с микроволновой плазмой циклотронного резонанса (ЦР). В новейшей совместной разработке компаний генератор ЦР плазмы интегрирован с промышленной системой АСО Picosun. Таким образом, становится возможным синтезировать пленки более высокого качества с более высокой точностью и воспроизводимостью на подложках до 300 мм. Некоторые превосходные результаты уже были получены на подложках 300 мм при синтезе пленок оксидов и нитридов.